Degradación de un antibiótico del grupo fluoroquinolona mediante fotocatálisis con un nuevo compósito de nitruro de carbono

En el presente estudio, un nuevo compósito de nitruro de carbono grafítico (g-C3N4) fue sintetizado a partir de urea y oxalato de calcio monohidratado mediante un proceso de pirólisis a 600 °C. El compósito fue caracterizado mediante difracción de rayos X (XRD), espectroscopía electrónica de barrido (SEM), espectroscopía de dispersión de energía (EDS) y espectroscopia infrarroja por transformadas de Fourier (FTIR). Adicionalmente, se determinó el punto de carga cero (PZC) del compósito. La actividad fotocatalítica del compósito de g-C3N4 fue evaluada mediante la degradación del antibiótico ofloxacino (OFL) en agua (concentración inicial de 20 mg/L), en un proceso de fotocatálisis heterogénea con radiación visible. Se determinó el efecto del pH y la adición de H2O2 en la degradación de OFL. A un valor de pH de 10 y con una concentración de 83,3 mg/L de H2O2, se alcanzó la mayor degradación de OFL, 23,9 %, en 40 min. Se observó una cinética de pseudo-primer orden para la degradación de OFL en aguas sintéticas. La adsorción de OFL sobre el compósito de g-C3N4 fue de 10,96 % y se observó un buen ajuste al modelo de isoterma de Freundlich. El porcentaje de remoción por adsorción sumado al porcentaje de degradación alcanzado bajo las mejores condiciones fotocatalíticas con compósito de g-C3N4, se logró una remoción del COT de 27,77 % y reducción del DQO de 30,83%. Esta estrategia de inmovilización de g-C3N4 puede ser la base para la generación de fotocalizadores más eficientes para aprovechar la radiación visible del sol.

• Main Author: Cóndor Guevara, Iván Alexis (author)
• Format: masterThesis
• Language: spa
• Published: 2019
• Subjects: INDUSTRIA FARMACÉUTICA; NITRURO DE CARBONO; CONTAMINACIÓN ANTIBIÓTICA; RESISTENCIA BACTERIANA; FOTOCATÁLISIS HETEROGÉNEA
• Online Access: http://repositorio.espe.edu.ec/handle/21000/21618