Degradación de un antibiótico del grupo fluoroquinolona mediante fotocatálisis con un nuevo compósito de nitruro de carbono

En el presente estudio, un nuevo compósito de nitruro de carbono grafítico (g-C3N4) fue sintetizado a partir de urea y oxalato de calcio monohidratado mediante un proceso de pirólisis a 600 °C. El compósito fue caracterizado mediante difracción de rayos X (XRD), espectroscopía electrónica de barrido...

• Հիմնական հեղինակ: Cóndor Guevara, Iván Alexis (author)
• Ձևաչափ: masterThesis
• Լեզու: spa
• Հրապարակվել է: 2019
• Խորագրեր: INDUSTRIA FARMACÉUTICA; NITRURO DE CARBONO; CONTAMINACIÓN ANTIBIÓTICA; RESISTENCIA BACTERIANA; FOTOCATÁLISIS HETEROGÉNEA
• Առցանց հասանելիություն: http://repositorio.espe.edu.ec/handle/21000/21618