Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials
In the following work we are going to describe the operation of an equipment capable of measuring the film thickness of a silicon oxide sample placed on a silicon substrate, this equipment uses an optical characterization technique called spectral reflectance. In order to achieve that, first we addr...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | bachelorThesis |
| اللغة: | eng |
| منشور في: |
2020
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/288 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
إضافة وسم كن أول من يترك تعليقا!