Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials
In the following work we are going to describe the operation of an equipment capable of measuring the film thickness of a silicon oxide sample placed on a silicon substrate, this equipment uses an optical characterization technique called spectral reflectance. In order to achieve that, first we addr...
Đã lưu trong:
| Tác giả chính: | |
|---|---|
| Định dạng: | bachelorThesis |
| Ngôn ngữ: | eng |
| Được phát hành: |
2020
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | http://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/288 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thêm thẻ Là người đầu tiên ghi lời nhận xét!