Computational studies on the atomic and electronic structure of γ − Al 2O3 surfaces

Es un material importante para muchas aplicaciones industriales, tales como en petroquímica, industria automotriz, y especialmente en catálisis, debido a su gran área superficial. A pesar de que este material tiene gran relevancia tecnológica, su estructura atómica es desconocida. Puesto que, tener...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Ayala León, María Paula (author)
Format: bachelorThesis
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2022
Schlagworte:
Online Zugang:http://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/528
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Beschreibung
Zusammenfassung:Es un material importante para muchas aplicaciones industriales, tales como en petroquímica, industria automotriz, y especialmente en catálisis, debido a su gran área superficial. A pesar de que este material tiene gran relevancia tecnológica, su estructura atómica es desconocida. Puesto que, tener la estructura atómica adecuada es crucial para entender y mejorar las propiedades de este material, éste es un campo de investigación activo con muchas preguntas abiertas. Por lo tanto, en este trabajo realizamos estudios de DFT en las superficies de usando dos de los modelos teóricos propuestos más citados en la literatura: Pinto (Modelo 1) y Digne (Modelo 2). Se realizó el análisis de las configuraciones electrónicas de la estructura del bulk, y de las superficies (111), (001), (110) para ambos modelos. Adicionalmente, las energías superficiales se calcularon para determinar que las superficies (111)a and (111), fueron las más energéticamente favorables para el Modelo 1 y 2, respectivamente. Partiendo de las superficies más estables en cada Modelo, se obtuvieron superficies no estequiométricas generando vacancias de oxígeno. Finalmente, los espectros UPS y las funciones de trabajo fueron simuladas para los casos más estables. Estos resultados pueden ser contrastados con experimentos futuros para corroborar los exactitud de los modelos.