Diseñar y caracterizar dispositivos MOSFET 2D con diferentes longitudes de canal y espesor de óxido.

El objetivo del presente trabajo de titulación es llevar a cabo el diseño y caracterización de dispositivos MOSFET cuando se varia el óxido de compuerta y la longitud del canal en los nodos tecnológicos de 180 nm y 250 nm. Tales tecnologías se simularon siguiendo las directrices proporcionadas en el...

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Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter: Flores Carpio, Jackson Francisco (author)
Andre forfattere: Ojeda Ortega, José Vinicio (author)
Format: bachelorThesis
Sprog:spa
Udgivet: 2017
Fag:
Online adgang:http://dspace.utpl.edu.ec/handle/20.500.11962/20828
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