Diseñar y caracterizar dispositivos MOSFET 2D con diferentes longitudes de canal y espesor de óxido.
El objetivo del presente trabajo de titulación es llevar a cabo el diseño y caracterización de dispositivos MOSFET cuando se varia el óxido de compuerta y la longitud del canal en los nodos tecnológicos de 180 nm y 250 nm. Tales tecnologías se simularon siguiendo las directrices proporcionadas en el...
Saved in:
Hovedforfatter: | |
---|---|
Andre forfattere: | |
Format: | bachelorThesis |
Sprog: | spa |
Udgivet: |
2017
|
Fag: | |
Online adgang: | http://dspace.utpl.edu.ec/handle/20.500.11962/20828 |
Tags: |
Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
|