Diseñar y caracterizar dispositivos MOSFET 2D con diferentes longitudes de canal y espesor de óxido.

El objetivo del presente trabajo de titulación es llevar a cabo el diseño y caracterización de dispositivos MOSFET cuando se varia el óxido de compuerta y la longitud del canal en los nodos tecnológicos de 180 nm y 250 nm. Tales tecnologías se simularon siguiendo las directrices proporcionadas en el...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակ: Flores Carpio, Jackson Francisco (author)
Այլ հեղինակներ: Ojeda Ortega, José Vinicio (author)
Ձևաչափ: bachelorThesis
Լեզու:spa
Հրապարակվել է: 2017
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://dspace.utpl.edu.ec/handle/20.500.11962/20828
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!